更新時(shí)間：2025-06-30
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廠商性質(zhì)：經(jīng)銷(xiāo)商
型號(hào)：VTR-151M
| 品牌 | ULVAC/日本愛(ài)發(fā)科 | 產(chǎn)地類(lèi)別 | 進(jìn)口 |
|---|---|---|---|
| 應(yīng)用領(lǐng)域 | 環(huán)保,化工,電子/電池,綜合 |
日本ULVAC愛(ài)發(fā)科小型高頻濺射設(shè)備
日本ULVAC愛(ài)發(fā)科小型高頻濺射設(shè)備
特征
它是絕緣體、金屬和半導(dǎo)體材料的濺射系統(tǒng)。
渦輪分子泵用于主泵送。
直徑為 2 英寸，3 個(gè)陰極可進(jìn)行多次沉積。
磁控濺射可實(shí)現(xiàn)濺射速度 30nm/min （SiO2）。
它具有基板加熱系統(tǒng)（350°C）。
| 型 | VTR-151M/SRF （SCOTT-C3） | |
| 真空性能 | 極限壓力 | 6,6×10-4帕 |
| 疏散時(shí)間 | 6,6×10-3帕/5分鐘 | |
| 真空室 | 真空室 | 金屬腔室 （直徑 310.5mm × 160mm （H）） |
| 陰極 | 直徑 2 英寸，3 路 | |
| 標(biāo)準(zhǔn)目標(biāo) | 直徑 2 英寸（直徑 50.8 毫米）× T1mm ×T1 毫米 | |
| 濺射有效面積 | 25 毫米 | |
| 濺射速度 | SiO2 SiO2，沉積時(shí)超過(guò) 30nm/min | |
| 膜厚分布 | SiO2 SiO2，直徑 25mm 時(shí) ±10% 以內(nèi) | |
| 基板加熱溫度 | 最高 350°C | |
| 最高 350 攝氏度 | 50mm ~ 90mm （可變：半固定） | |
| 排氣系統(tǒng) | 主泵 | 渦輪分子泵 250 L/sec |
| 液氮捕集阱 | ー | |
| 副泵 | 油旋轉(zhuǎn)泵200L/min | |
| 油霧捕集器 | 油霧捕集器 OMT-200A | |
| 作系統(tǒng) | 主閥 | 蝶閥 |
| 副閥 | 三通閥 | |
| 自動(dòng)泄漏閥 | 選擇 | |
| 控制 | 手動(dòng)控制 | |
| 控制系統(tǒng) | 射頻電源 | 最大 300W （0~300W 可變） |
| 皮拉尼真空計(jì) | GP-1GRY 系列 | |
| 電離真空計(jì) | 編號(hào)：ISG1/SH2-1 | |
| 設(shè)置 | 外部尺寸 | 1081 毫米（寬）×853 毫米（深）×1104 毫米（高） |
| 重量 | 400 公斤 | |
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